VK-X3000融合激光共聚焦、聚焦变化、白光干涉三种扫描方式，覆盖纳米至毫米级测量。搭载0.1nm分辨率线性标尺，精度达纳米级，符合国家标准。面扫描125Hz，线扫描7900Hz，高效检测。内置292种分析工具，支持轮廓、体积、粗糙度、平面度、CAD比对及批量分析。非接触测量，透明体、陡坡、柔软及粘性材料均可准确测量。自动对焦、倾斜补正，复杂形状一键获取结果。

应用于半导体晶片、MEMS、陶瓷、薄膜、印刷电路板、精密螺丝刀、端子压接、焊锡检测等

由液相生成形成的 GaAs 上的小面 │ 3000 倍非真空高倍率拍摄

Si 晶片背面 │ 3000 倍
表面粗糙度测量

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