【交付概述】

近日，我司完成日立MC1000 6英寸离子溅射镀膜仪的全套定制交付与安装调试工作。该项目从需求确认到最终交付历时5个月，完成了从标准品到6英寸样品仓定制方案的全程落地。设备已正式投入使用，将为扫描电子显微镜（SEM）样品制备提供稳定、均匀的导电镀膜支持。

MC1000离子溅射仪适用于SEM观测前的样品导电处理，可在样品表面沉积金（Au）、铂（Pt）、铂钯合金（Pt-Pd）或金钯合金（Au-Pd）等金属薄膜，有效避免非导电样品在电子束照射下产生荷电现象，保障高分辨率观测质量。

【定制亮点】

本次交付的核心在于6英寸（φ150mm）样品仓。标准配置MC1000样品台最大支持φ60mm×20mm样品，而本次定制方案将样品仓扩展至6英寸（150mm）内径，可容纳直径达150mm的大型样品，同时可选配增高垫块支持45mm高样品。

有效解决了大尺寸晶圆、大面积材料及异形工件的SEM观测前处理难题，显著拓展了设备的应用边界。

【设备核心技术优势】

磁控溅射技术：采用电磁管电极设计，靶材内置磁体产生垂直于靶面电场的磁场，最大限度减轻快速粒子对样品的损伤，同时实现高致密性（小直径颗粒）镀膜

触控操作：配备LCD触摸屏，一键式完成参数设定，最多可存储并调用5组加工条件

灵活靶材选择：支持Au、Pt、Pt-Pd（8:2）、Au-Pd（6:4）等多种靶材

镀膜速率（压力7Pa、放电电流40mA、靶距20mm）：Au靶35nm/min、Pt靶15nm/min、Pt-Pd靶20nm/min、Au-Pd靶25nm/min

【适用场景】

6英寸晶圆、大面积材料等大尺寸样品的SEM观测前处理

半导体材料、陶瓷、高分子等非导电样品的高分辨率SEM观测

需避免荷电效应的能谱分析（EDS）样品制备

场发射扫描电镜的高倍率观测应用

5个月的定制交付周期，换来的是与客户需求精准匹配的设备方案。6英寸样品仓的成功落地，进一步拓展了MC1000在半导体、材料科学等领域的应用深度。如有大尺寸样品溅射镀膜或SEM样品制备需求，欢迎随时联系我们咨询。

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